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(原鹽城特立涂裝專用設備有限公司)隨著生活水平的提高,人們對生活用水的要求也相對提高。例如對水質的要求,我們以往使用的提純水的設備無法去除水中的陰陽離子,而現在使用的半導體超純水設備卻可以做到這一點,因此半導體超純水設備被應用于各個領域,那么半導體超純水設備的操作流程有哪些呢?
半導體行業用超純水設備主要應用于半導體行業用水,該設備主要由預處理、反滲透、EDI模塊和后處理裝置組成,可以有效去除原水中的懸浮物、膠體、細菌、金屬離子等雜質,出水電阻率可以達到18兆歐以上,完全滿足半導體行業用水需求。
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半導體行業用超純水設備工藝
1、預處理-反滲透-水箱-陽床-陰床-混合床-純化水箱-純水泵-紫外線殺菌器-精制混床-精密過濾器-用水對象
2、預處理-一級反滲透-加藥裝置(PH調節)-中間水箱-第二級反滲透-純化水箱-純水泵-紫外線殺菌器-0.2或0.5μm精密過濾器-用水對象
3、預處理-反滲透-中間水箱-水泵-EDI裝置-純化水箱-純水泵-紫外線殺菌器-0.2或0.5μm精密過濾器-用水對象
4、預處理-反滲透-中間水箱-水泵-EDI裝置-純化水箱-純水泵-紫外線殺菌器-精制拋光混床-TOC分解器-0.2或0.5μm精密過濾器-用水對象。
半導體行業用超純水設備特點
1、整體化程度高、易于擴展、增加膜數量即可增加處理量。
2、自動化程度高,遇故障立即自停,具有自動保護功能。
3、膜組件為復合膜卷制而成,表現出更高的溶質分離率和透過速率。
4、能耗低、水利用率高、運行成本低。
半導體行業用超純水設備性能優勢明顯,能夠連續穩定的制備品質優良的超純水,不會因為樹脂再生而停止運行,超純水裝置結構設計相對靠緊,占地面積小,可以為企業節省很多空間。以上是關于半導體超純水設備的介紹,相信大家在看完此文章后對半導體超純水設備會有進一步的了解,從上面的介紹中我們可以看出半導體超純水設備因不同的情況,工藝流程也會有所不同